Lab 3 Kepala 1 Inci RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Machine dengan DC Magnetron Sputtering

3 Kepala Compact 1 Inch RF Plasma Magnetron Sputtering Coater, dengan Opsi DC Magnetron Sputtering

Mesin RF Plasma Magnetron Sputtering Coater 2 inci untuk Film Tipis Non-Konduktif

2 inci RF Plasma Magnetron Sputtering Coater untuk Film Tipis Non-Konduktif

Mesin Lab DC Magnetron Sputtering Coater dengan Rotary Stage & Water Chiller

Pelapis Sputtering Magnetron DC Daya Tinggi dengan Panggung Putar & Pendingin Air

3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater Machine Heater (500C) Termasuk 3 Target

3 Pelapis Plasma Sputtering Sasaran Putar w. Substrat Heater (500C) Termasuk 3 Sasaran

Lab DC Magnetron Sputtering Coater Machine Dengan Target Lapisan Logam Mulia

Compact DC Magnetron Sputtering Coater Dengan Target Emas untuk Lapisan Logam Mulia

Lab Powder PVD Coater Machine dengan DC Magnetron Sputtering & Vibration Stage

Compact Powder PVD Coater dengan DC Magnetron Sputtering & Tahap Getaran

5 Kepala Mesin RF Plasma Magnetron Sputtering Coater untuk Riset Film Tipis MGI

Disesuaikan 5 Kepala RF Plasma Magnetron Sputtering Coater untuk Riset Film Tipis MGI

Mesin Pelapis Plasma Sputtering Kombinatorial dengan Tiga Sumber Sputtering magnetron 2'' dan Daya RF/DC

Pelapis Plasma Sputtering Kombinatorial dengan Sumber Sputtering magnetron Tiga 2'' dan Catu Daya RF/DC

Lab DC/RF Dual-Head Vacuum 2 Inch Magnetron Plasma Sputtering Coater Machine

DC/RF Dual-Head High Vacuum 2 Inch Magnetron Plasma Sputtering Coater

Lab DC Vacuum Ion Sputtering Coater Coater dengan Ukuran Chamber 150*120mm

Lab DC Vacuum Ion Sputtering Coater Coater dengan Ukuran Chamber 150*120mm pengantar Pelapis Ion Sputtering (Model SD900) ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Ini banyak digunakan untuk melapisi sampel SEM non-konduktif dengan Au untuk pencitraan yang lebih baik. Ini juga sangat baik untuk perawatan permukaan. Tekanan kerja vakum dapat dicapai dengan cepat dalam waktu 2 menit dengan menggunakan pompa vakum yang tepat. Ini menghasilkan lebih sedikit panas. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan. Pompa vakum disertakan. Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/dtk) Kekosongan l meniru 2 Pa Max sputtering saat ini 0-20mA Bekerja p jaminan 30 Pa - 7 Pa Menyedot debu ti aku <5 Min( 2 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 2*10 -2 mbar Gas c kontrol Gas f rendah c pengawas Ruang s ize Φ 15 0* 12 0mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Magnetron t target s sumber Ukuran target φ 50* 0,1 mm( SEBUAH kamu)/ t sumber target: Au,Ag,Pt Operasi m metode Manual Instruksi l Berat/ s ize 45 kg/ 36 panjang x 0mm 30 lebar 0mm x 38 tinggi 0mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 15 00W Pendinginan m metode Udara c ooling Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan dukungan produk seumur hidup t

DC atau RF High Vacuum Magnetron Ion Sputtering Coater Coater

DC atau RF High Vacuum Magnetron Ion Sputtering Coater Coater pengantar Tinggi Lapisan Sputtering Ion Magnetron Vakum ideal dan dirancang untuk ilmu material dan persiapan sampel. Ini banyak digunakan untuk sebagian besar universitas dan lembaga penelitian ilmiah ilmu dan teknik material untuk melapisi, untuk logam, keramik, semikonduktor, isolator atau jenis persiapan bahan membran lainnya. Pelapis Sputtering Ion Magnetron Vakum Tinggi menyediakan lingkungan sputtering paling stabil dan mencapai kondisi eksperimental dasar sputtering magnetron dalam waktu yang sangat singkat. Ini memberikan DC / RF dua jenis opsi daya sputtering yang memungkinkan zat konduktif atau non-konduktif sputtering pada spesimen dan meningkatkan Kinerja pengendapan uap fisik (PVD). Ini juga sangat baik untuk perawatan permukaan dan pelapisan. Mudah dioperasikan dan juga ramah pengguna. Pompa vakum dan Chiller disertakan. Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump+( Hai saya bebas) t urbo m oleculan p set um Putar p umping s pipis 50Hz : 16 m³ / h (4,4 L/dtk)/ 60 Hz : 19,2 m³ / jam (5,2 L/dtk) Molekuler p umping s pipis 300 L/ s Kekosongan l meniru 5*10 -5 Pa Bekerja p jaminan 0,5-5Pa Menyedot debu t saya aku >10 Menit(10 -3 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 1*10 -6 Pa Gas c kontrol Gas f rendah c pengawas Ruang s ize φ260*200mm (tinggi) m etal Magnetron t target s sumber Ukuran target φ 50*3mm(Cu)/ t sumber target: w ek m agnet s substansi / m bahan Operasi m metode Manual Instruksi l Berat/ s ize Panjang 100kg/610mm x lebar 420mm x tinggi 490mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi <3000W Pendinginan m metode Udara c ooling( p ump)+ w ater c ooling( s menyibukkan diri t target) Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan dukungan produk seumur hidup

DC Vacuum Portable Auto Ion Sputtering Coater untuk Persiapan Sampel SEM Non-konduktif

DC Vacuum Portable Auto Ion Sputtering Coater untuk Persiapan Sampel SEM Non-konduktif pengantar Kompak Pelapis Ion Sputtering Otomatis (Model SD800) yang ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Ini banyak digunakan untuk melapisi sampel SEM non-konduktif dengan Au untuk pencitraan yang lebih baik. Ini juga sangat baik untuk perawatan permukaan. Tekanan vakum kerja dapat dicapai dengan cepat saat menggunakan pompa vakum yang tepat. Ini menghasilkan lebih sedikit panas. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan menggunakan Time Control. Pompa vakum disertakan. Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9 . 6 m³ /h ( 2 . 6 L/dtk) Menyedot debu t saya aku < 2 Min Ruang s ize Φ 115 * 1 00mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Magnetron t target s sumber Ukuran target φ 50* 0,1 mm( SEBUAH kamu)/ t sumber target: Au,Ag,Pt Operasi m metode Manual Instruksi l Berat/ s ize 4 0kg/ 307 mm panjang x 26 lebar 0mm x 26 tinggi 0mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 15 00W Pendinginan m metode Udara c ooling Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan produk seumur hidup dukung

Vacuum Pulsing Thermal Evaporating Sputtering Coater Coater dengan Pompa Vakum

Vacuum Pulsing Thermal Evaporating Sputtering Coater Coater dengan Pompa Vakum pengantar Otomatis Pelapis Karbon Evaporasi Termal Berdenyut (Model SD980) yang ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Pelapis karbon Model SD980 adalah pelapis karbon otomatis penuh yang menerapkan film karbon konduktif tipis pada permukaan sampel. Menerapkan lapisan ini ke sampel non-konduktif adalah teknik persiapan yang efektif untuk mengurangi artefak elektron muatan untuk analisis dalam SEM. Mode berdenyut untuk melindungi sampel juga disertakan. Tekanan kerja vakum dapat dicapai dengan cepat bila menggunakan pompa vakum yang tepat. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan dengan Mengontrol Daya Pemanasan Layar Sentuh (Arus) dan Waktu Berdenyut (Resep). Pompa vakum disertakan. Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/dtk) Kekosongan l meniru 2 Pa Arus penguapan maks 80A Bekerja p jaminan 6 Pa - 4 Pa Menyedot debu t saya aku <5 Min( 2 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 2*10 -2 mbar Ruang s ize Φ 15 0* 12 0mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Penguapan t target s sumber Target Bahan: tali karbon / t sumber target: tali karbon Operasi m metode Manual Instruksi l Berat/ s ize 45 kg/ 39 panjang x 0mm 31 lebar 0mm x 2 Tinggi 90mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 2 000W Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan dukungan produk seumur hidup