Tegangan Masukan

• 220 VAC 50/60Hz
• Daya 110 V tersedia dengan menggunakan a Trafo 1000 W (sekering 15 A ). Trafo dijual terpisah.

Daya Keluaran

• 1600 VDC
• 250 W
• 150 mA maks.
• Perlindungan arus berlebih bawaan (>150 mA)

Kamar Spesimen

• Tabung kaca kuarsa, OD 165 mm. X 150 mm ID x 250 mm Tinggi

Kepala &
Tahap Spesimen

• 2" kepala sputtering magnetron fleksibel dengan jaket pendingin air disertakan (Gbr.1)
• Satu tahap sampel baja tahan karat Dia 50 mm dapat diputar dari 0 - 5 RPM
• Satu rana yang dioperasikan secara manual untuk perlindungan target. (Gbr.2)
• Penahan kepala sputtering tersedia untuk menahan kepala sputtering saat tidak beroperasi.
• Jarak antara kepala sputtering dan tahap sampel dapat disesuaikan dari 60 - 100 mm.
• Area Pelapisan Maks: Maks. diameter 4".
• Satu Chiller Air Sirkulasi Udara Dingin 10 L/mnt Aliran disertakan untuk mendinginkan kepala sputtering. (Gbr.6)
• 

Panel kendali

• Panel kontrol layar sentuh berwarna 6" dengan integrasi PLC untuk pengoperasian yang mudah
• Satu panel untuk semua parameter monitor dan kontrol: vakum, arus.

Tekanan Vakum Tertinggi

• Port vakum KF25 bawaan
• Sistem membutuhkan tangki bensin Ar dengan pengatur tekanan. (tidak termasuk)
• < 1.0E-2 Torr oleh Pompa vakum baling-baling (tidak termasuk) untuk target Au, Ag, Pt, Cu, Mo (tidak sensitif terhadap udara)
• < 1.0E-5 Torr oleh Pompa turbomolekul (tidak termasuk) untuk target Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn (sensitif terhadap udara)
• Vakum terendah dapat mencapai < 4.0E-6 Torr dengan memompa semalaman dan memanggang

Atmosfer Gas

• Satu katup jarum dipasang untuk memungkinkan saluran masuk gas Ar mencapai lapisan plasma yang lebih baik
• Sistem membutuhkan tangki bensin Ar dengan pengatur tekanan (tidak termasuk)

Target

· Satu target Tembaga 2" disertakan untuk pengujian, Ukuran target: 2" Dia.x 2.5mm.

• Itu juga bisa melapisi Ag, Al, Cr, Ni, Pt, Ti, Sn, Li, Mg , dll. hampir setiap jenis bahan logam.
• Peringatan : Target Aluminium, Chromium atau Nikel dapat dilapisi oleh mesin ini, tetapi harap lihat Metode Pelapisan yang Direkomendasikan sebelum digunakan.
• Silakan gunakan RF Plasma Magnetron Sputtering untuk melapisi Alumina

Monitor Ketebalan Film Opsional

• Monitor ketebalan film bersifat opsional dengan biaya tambahan
• Tahap sampel yang dapat dipanaskan hingga 500°C tersedia berdasarkan permintaan dengan biaya tambahan
• Flowmeter untuk saluran masuk gas kontrol yang akurat tersedia berdasarkan permintaan dengan biaya tambahan.

Dimensi Keseluruhan

• L 440 mm×W 330 mm × T 290 mm

Berat bersih

• 20 kg

Berat Pengiriman & Dimensi

• 160 pon
• 45"x45"x40"

Kepatuhan

• persetujuan CE
• Sertifikasi NRTL tersedia atas permintaan dengan biaya tambahan, silakan hubungi perwakilan penjualan kami untuk penawaran.

Jaminan

• Satu tahun terbatas dengan dukungan seumur hidup

Catatan Aplikasi

• Peringatan: Sputtering head terhubung ke tegangan TINGGI. Operator harus memakai sarung tangan selama operasi
• Pastikan target, kepala sputtering, substrat, dan tahap pemanasan bersih sebelum pelapisan, perlu menggunakan amplas dan alkohol untuk membersihkan dan menyegarkan target Al atau Nikel setiap kali digunakan.