Tegangan Masukan

• 220 VAC 50/60Hz
• Daya 110 V tersedia dengan menggunakan a Trafo 1000 W (sekering 15 A ). Trafo dijual terpisah

Daya Keluaran

• 1600 VDC
• 250 W
• 150 mA maks.
• Perlindungan arus berlebih bawaan (>150 mA)

Kepala Penjilat

• Sudah termasuk kepala sputtering magnetron fleksibel 2" dengan jaket pendingin air
• Satu rana yang dioperasikan secara manual untuk perlindungan target
• Penahan kepala sputtering tersedia untuk menahan kepala sputtering saat tidak beroperasi
• Jarak antara kepala sputtering dan tahap sampel dapat disesuaikan dari 60 - 100 mm
• Satu Pendingin Air Sirkulasi Air Dingin 16 L/mnt disertakan untuk mendinginkan kepala sputtering

Tahap Getaran

• Tahap getaran dibangun di bagian bawah ruang vakum
• Kecepatan getaran dapat disesuaikan dari 400 - 2000 RPM (6 - 33 Hz)
• Satu wadah bubuk 2" ditempatkan pada tahap getaran. Ini akan berputar selama getaran
• Kuantitas bubuk yang disarankan: < 500 mg maks.
• Ukuran partikel yang disarankan: 1 ~ 1000 mikron

Ruang Vakum

• Tabung kaca kuarsa, OD 165 mm. X 150 mm ID x 250 mm Tinggi

Panel kendali

• Panel kontrol layar sentuh berwarna 6" dengan integrasi PLC untuk pengoperasian yang mudah
• Satu panel untuk semua parameter monitor dan kontrol: vakum, arus

Tekanan Vakum Tertinggi

• Port vakum KF25 bawaan
• Sistem membutuhkan tangki bensin Ar dengan pengatur tekanan (tidak termasuk)
• < 1.0E-2 Torr oleh Pompa vakum baling-baling (tidak termasuk) untuk target Au, Ag, Pt, Cu, Mo (tidak sensitif terhadap udara)
• < 1.0E-5 Torr oleh Pompa turbomolekul (tidak termasuk) untuk target Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn (sensitif terhadap udara)
• Vakum terendah dapat mencapai < 4.0E-6 Torr dengan memompa semalaman dan memanggang

Atmosfer Gas

• Satu katup jarum dipasang untuk memungkinkan saluran masuk gas Ar mencapai lapisan plasma yang lebih baik
• Sistem membutuhkan tangki bensin Ar dengan pengatur tekanan (tidak termasuk)

Target

• Satu target Tembaga 2" disertakan untuk pengujian, ukuran target: 2" Dia. x 2.5mm
• Itu juga bisa melapisi Ag, Al, Cr, Ni, Pt, Ti, Sn, Li, Mg , dll. hampir setiap jenis bahan logam
• Peringatan: Aluminium, Chromium atau Nikel dapat dilapisi oleh mesin ini, tetapi silakan lihat Metode Pelapisan yang Direkomendasikan di tautan target di bawah ini
• Silakan gunakan pelapis RF Plasma Magnetron Sputtering untuk melapisi bahan non-konduktif dan karbon

Dimensi Keseluruhan

Berat bersih

• 20 kg

Berat Pengiriman & Dimensi

• 160 pon
• 45"x45"x40"

Kepatuhan

• persetujuan CE
• Sertifikasi NRTL (UL 6100) tersedia atas permintaan dengan biaya tambahan, silakan hubungi perwakilan penjualan kami untuk mendapatkan penawaran

Jaminan

• Satu tahun terbatas dengan dukungan seumur hidup

Catatan Aplikasi

• Peringatan: Sputtering head terhubung ke tegangan TINGGI. Operator harus memakai sarung tangan selama operasi
• Pastikan target, kepala sputtering, substrat, dan tahap pemanasan bersih sebelum pelapisan, perlu menggunakan amplas dan alkohol untuk membersihkan dan menyegarkan target Al atau Nikel setiap kali menggunakan
• Catatan: bedak harus mengering dan menyebar dengan baik sebelum dilapisi
•