DC atau RF High Vacuum Magnetron Ion Sputtering Coater Coater

DC atau RF High Vacuum Magnetron Ion Sputtering Coater Coater pengantar Tinggi Lapisan Sputtering Ion Magnetron Vakum ideal dan dirancang untuk ilmu material dan persiapan sampel. Ini banyak digunakan untuk sebagian besar universitas dan lembaga penelitian ilmiah ilmu dan teknik material untuk melapisi, untuk logam, keramik, semikonduktor, isolator atau jenis persiapan bahan membran lainnya. Pelapis Sputtering Ion Magnetron Vakum Tinggi menyediakan lingkungan sputtering paling stabil dan mencapai kondisi eksperimental dasar sputtering magnetron dalam waktu yang sangat singkat. Ini memberikan DC / RF dua jenis opsi daya sputtering yang memungkinkan zat konduktif atau non-konduktif sputtering pada spesimen dan meningkatkan Kinerja pengendapan uap fisik (PVD). Ini juga sangat baik untuk perawatan permukaan dan pelapisan. Mudah dioperasikan dan juga ramah pengguna. Pompa vakum dan Chiller disertakan. Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump+( Hai saya bebas) t urbo m oleculan p set um Putar p umping s pipis 50Hz : 16 m³ / h (4,4 L/dtk)/ 60 Hz : 19,2 m³ / jam (5,2 L/dtk) Molekuler p umping s pipis 300 L/ s Kekosongan l meniru 5*10 -5 Pa Bekerja p jaminan 0,5-5Pa Menyedot debu t saya aku >10 Menit(10 -3 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 1*10 -6 Pa Gas c kontrol Gas f rendah c pengawas Ruang s ize φ260*200mm (tinggi) m etal Magnetron t target s sumber Ukuran target φ 50*3mm(Cu)/ t sumber target: w ek m agnet s substansi / m bahan Operasi m metode Manual Instruksi l Berat/ s ize Panjang 100kg/610mm x lebar 420mm x tinggi 490mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi <3000W Pendinginan m metode Udara c ooling( p ump)+ w ater c ooling( s menyibukkan diri t target) Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan dukungan produk seumur hidup

Ilmu Material Vacuum Magnetron Ion Sputter Coater Coater

Ilmu Material Vacuum Magnetron Ion Sputter Coater Coater pengantar Ilmu Material Pelapis Ion Sputtering Magnetron (Model SD900M) ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Ini banyak digunakan untuk melapisi sampel SEM yang tidak konduktif atau peka panas dengan Au untuk pencitraan yang lebih baik. Ini juga sangat baik untuk perawatan permukaan dan menghindari kerusakan pada sampel substrat. Hasil Pelapisan Contoh Gambar dibawah SEM (dengan Model SD-900M) EPTFE (Extended Poly Tetra Fluoro Ethylene) Vakum rendah, dapat dicapai dengan cepat bila menggunakan pompa vakum yang tepat dalam waktu 5 menit. Ini menghasilkan lebih sedikit panas dan menghindari kerusakan plasma pada sampel substrat. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan. Pompa vakum disertakan. Pendingin adalah opsional. Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/dtk) Kekosongan l meniru 2 Pa Max sputtering saat ini 100mA Bekerja p jaminan 20Pa - 8 Pa Menyedot debu t saya aku <5 Min( 2 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 2*10 -2 mbar Ruang s ize Φ 15 0* 12 0mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Magnetron t target s sumber Target ukuran φ50*0.1mm(Au) / t sumber target: Au,Ag,Pt Operasi m metode Manual Instruksi l Berat/ s ize 45 kg/ 36 panjang x 0mm 30 lebar 0mm x 38 tinggi 0mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 15 00W Metode pendinginan Pendingin air (opsional) Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan dukungan produk seumur hidup

Magnetron Ion Thermal Evaporation Carbon Sputter Coater untuk Persiapan Sampel SEM

Magnetron Ion Thermal Evaporation Carbon Sputter Coater untuk Persiapan Sampel SEM pengantar Unit Pemercikan Ion Magnetron & Panas Karbon Penguapan Pelapis ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Model SD900C (Magnetron Ion Sputtering Unit) banyak digunakan untuk melapisi sampel SEM yang tidak konduktif atau peka panas dengan Au untuk pencitraan yang lebih baik. Ini juga sangat baik untuk perawatan permukaan dan menghindari kerusakan pada sampel substrat. Model SD900C (Thermal Evaporation Carbon Unit) pelapis karbon menerapkan film karbon konduktif tipis pada permukaan sampel. Menerapkan lapisan ini ke sampel non-konduktif adalah teknik persiapan yang efektif untuk mengurangi artefak elektron muatan untuk analisis dalam SEM. Tekanan kerja vakum dapat dicapai dengan cepat bila menggunakan pompa vakum yang tepat dalam waktu 5 menit. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan. Pompa vakum disertakan. Pendingin adalah opsional. (untuk Unit Pemercikan Ion Magnetron) Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/dtk) Kekosongan l meniru 2 Pa Max sputtering saat ini 100mA Penguapan maksimal saat ini 100A Bekerja p jaminan 20Pa - 8 Pa Menyedot debu ti aku <5 Min( 2 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 2*10 -2 mbar Gas c kontrol Gas f rendah c pengawas Ruang s ize Φ 15 0* 12 0mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Magnetron t target s sumber Ukuran target φ 50* 0,1 mm( SEBUAH kamu)/ t sumber target: Au,Ag,Pt Penguapan t target s sumber Bahan target: tali karbon / sumber target: tali karbon Operasi m metode Manual Instruksi l (2 unit) Berat/ s ize 55 kg/ 36 panjang x 0mm 30 lebar 0mm x 38 tinggi 0mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 20 00W Pendinginan m metode Udara c ooling (Penguapan)+pendinginan air (sputtering) Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan produk seumur hidup dukungan t