DC atau RF High Vacuum Magnetron Ion Sputtering Coater Coater

DC atau RF High Vacuum Magnetron Ion Sputtering Coater Coater pengantar Tinggi Lapisan Sputtering Ion Magnetron Vakum ideal dan dirancang untuk ilmu material dan persiapan sampel. Ini banyak digunakan untuk sebagian besar universitas dan lembaga penelitian ilmiah ilmu dan teknik material untuk melapisi, untuk logam, keramik, semikonduktor, isolator atau jenis persiapan bahan membran lainnya. Pelapis Sputtering Ion Magnetron Vakum Tinggi menyediakan lingkungan sputtering paling stabil dan mencapai kondisi eksperimental dasar sputtering magnetron dalam waktu yang sangat singkat. Ini memberikan DC / RF dua jenis opsi daya sputtering yang memungkinkan zat konduktif atau non-konduktif sputtering pada spesimen dan meningkatkan Kinerja pengendapan uap fisik (PVD). Ini juga sangat baik untuk perawatan permukaan dan pelapisan. Mudah dioperasikan dan juga ramah pengguna. Pompa vakum dan Chiller disertakan. Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump+( Hai saya bebas) t urbo m oleculan p set um Putar p umping s pipis 50Hz : 16 m³ / h (4,4 L/dtk)/ 60 Hz : 19,2 m³ / jam (5,2 L/dtk) Molekuler p umping s pipis 300 L/ s Kekosongan l meniru 5*10 -5 Pa Bekerja p jaminan 0,5-5Pa Menyedot debu t saya aku >10 Menit(10 -3 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 1*10 -6 Pa Gas c kontrol Gas f rendah c pengawas Ruang s ize φ260*200mm (tinggi) m etal Magnetron t target s sumber Ukuran target φ 50*3mm(Cu)/ t sumber target: w ek m agnet s substansi / m bahan Operasi m metode Manual Instruksi l Berat/ s ize Panjang 100kg/610mm x lebar 420mm x tinggi 490mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi <3000W Pendinginan m metode Udara c ooling( p ump)+ w ater c ooling( s menyibukkan diri t target) Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan dukungan produk seumur hidup