DC Vacuum Portable Auto Ion Sputtering Coater untuk Persiapan Sampel SEM Non-konduktif

DC Vacuum Portable Auto Ion Sputtering Coater untuk Persiapan Sampel SEM Non-konduktif pengantar Kompak Pelapis Ion Sputtering Otomatis (Model SD800) yang ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Ini banyak digunakan untuk melapisi sampel SEM non-konduktif dengan Au untuk pencitraan yang lebih baik. Ini juga sangat baik untuk perawatan permukaan. Tekanan vakum kerja dapat dicapai dengan cepat saat menggunakan pompa vakum yang tepat. Ini menghasilkan lebih sedikit panas. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan menggunakan Time Control. Pompa vakum disertakan. Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9 . 6 m³ /h ( 2 . 6 L/dtk) Menyedot debu t saya aku < 2 Min Ruang s ize Φ 115 * 1 00mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Magnetron t target s sumber Ukuran target φ 50* 0,1 mm( SEBUAH kamu)/ t sumber target: Au,Ag,Pt Operasi m metode Manual Instruksi l Berat/ s ize 4 0kg/ 307 mm panjang x 26 lebar 0mm x 26 tinggi 0mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 15 00W Pendinginan m metode Udara c ooling Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan produk seumur hidup dukung

Magnetron Ion Thermal Evaporation Carbon Sputter Coater untuk Persiapan Sampel SEM

Magnetron Ion Thermal Evaporation Carbon Sputter Coater untuk Persiapan Sampel SEM pengantar Unit Pemercikan Ion Magnetron & Panas Karbon Penguapan Pelapis ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Model SD900C (Magnetron Ion Sputtering Unit) banyak digunakan untuk melapisi sampel SEM yang tidak konduktif atau peka panas dengan Au untuk pencitraan yang lebih baik. Ini juga sangat baik untuk perawatan permukaan dan menghindari kerusakan pada sampel substrat. Model SD900C (Thermal Evaporation Carbon Unit) pelapis karbon menerapkan film karbon konduktif tipis pada permukaan sampel. Menerapkan lapisan ini ke sampel non-konduktif adalah teknik persiapan yang efektif untuk mengurangi artefak elektron muatan untuk analisis dalam SEM. Tekanan kerja vakum dapat dicapai dengan cepat bila menggunakan pompa vakum yang tepat dalam waktu 5 menit. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan. Pompa vakum disertakan. Pendingin adalah opsional. (untuk Unit Pemercikan Ion Magnetron) Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/dtk) Kekosongan l meniru 2 Pa Max sputtering saat ini 100mA Penguapan maksimal saat ini 100A Bekerja p jaminan 20Pa - 8 Pa Menyedot debu ti aku <5 Min( 2 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 2*10 -2 mbar Gas c kontrol Gas f rendah c pengawas Ruang s ize Φ 15 0* 12 0mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Magnetron t target s sumber Ukuran target φ 50* 0,1 mm( SEBUAH kamu)/ t sumber target: Au,Ag,Pt Penguapan t target s sumber Bahan target: tali karbon / sumber target: tali karbon Operasi m metode Manual Instruksi l (2 unit) Berat/ s ize 55 kg/ 36 panjang x 0mm 30 lebar 0mm x 38 tinggi 0mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 20 00W Pendinginan m metode Udara c ooling (Penguapan)+pendinginan air (sputtering) Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan produk seumur hidup dukungan t