Vacuum Thermal Evaporating Carbon Coater Coater untuk Ilmu Material

Vacuum Thermal Evaporating Carbon Coater Coater untuk Ilmu Material pengantar Pelapis Karbon Penguapan Termal (Model SD800C) ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Pelapis karbon Model SD800C menerapkan film karbon konduktif tipis pada permukaan sampel. Menerapkan lapisan ini ke sampel non-konduktif adalah teknik persiapan yang efektif untuk mengurangi artefak elektron muatan untuk analisis dalam SEM. Tekanan kerja vakum dapat dicapai dengan cepat bila menggunakan pompa vakum yang tepat dalam waktu 5 menit. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan. Pompa vakum disertakan. Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h 2 . 6 L/dtk) Kekosongan l meniru 2 Pa Penguapan maksimal saat ini 100A Bekerja p jaminan 6Pa - 4 Pa Menyedot debu t aku < 5 Min( 2 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 2*10 -2 mbar Ruang s ize Φ 15 0* 12 0mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Penguapan t target s sumber Target bahan: tali karbon/target sumber: tali karbon Operasi m metode Manual Instruksi Berat/ s ize 45 kg/ 34 panjang x 0mm 39 lebar 0mm x 30 tinggi 0mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 2 000W Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan produk seumur hidup dukung

Ilmu Material Vacuum Magnetron Ion Sputter Coater Coater

Ilmu Material Vacuum Magnetron Ion Sputter Coater Coater pengantar Ilmu Material Pelapis Ion Sputtering Magnetron (Model SD900M) ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Ini banyak digunakan untuk melapisi sampel SEM yang tidak konduktif atau peka panas dengan Au untuk pencitraan yang lebih baik. Ini juga sangat baik untuk perawatan permukaan dan menghindari kerusakan pada sampel substrat. Hasil Pelapisan Contoh Gambar dibawah SEM (dengan Model SD-900M) EPTFE (Extended Poly Tetra Fluoro Ethylene) Vakum rendah, dapat dicapai dengan cepat bila menggunakan pompa vakum yang tepat dalam waktu 5 menit. Ini menghasilkan lebih sedikit panas dan menghindari kerusakan plasma pada sampel substrat. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan. Pompa vakum disertakan. Pendingin adalah opsional. Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/dtk) Kekosongan l meniru 2 Pa Max sputtering saat ini 100mA Bekerja p jaminan 20Pa - 8 Pa Menyedot debu t saya aku <5 Min( 2 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 2*10 -2 mbar Ruang s ize Φ 15 0* 12 0mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Magnetron t target s sumber Target ukuran φ50*0.1mm(Au) / t sumber target: Au,Ag,Pt Operasi m metode Manual Instruksi l Berat/ s ize 45 kg/ 36 panjang x 0mm 30 lebar 0mm x 38 tinggi 0mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 15 00W Metode pendinginan Pendingin air (opsional) Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan dukungan produk seumur hidup