Vacuum Pulsing Thermal Evaporating Sputtering Coater Coater dengan Pompa Vakum

Vacuum Pulsing Thermal Evaporating Sputtering Coater Coater dengan Pompa Vakum pengantar Otomatis Pelapis Karbon Evaporasi Termal Berdenyut (Model SD980) yang ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Pelapis karbon Model SD980 adalah pelapis karbon otomatis penuh yang menerapkan film karbon konduktif tipis pada permukaan sampel. Menerapkan lapisan ini ke sampel non-konduktif adalah teknik persiapan yang efektif untuk mengurangi artefak elektron muatan untuk analisis dalam SEM. Mode berdenyut untuk melindungi sampel juga disertakan. Tekanan kerja vakum dapat dicapai dengan cepat bila menggunakan pompa vakum yang tepat. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan dengan Mengontrol Daya Pemanasan Layar Sentuh (Arus) dan Waktu Berdenyut (Resep). Pompa vakum disertakan. Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/dtk) Kekosongan l meniru 2 Pa Arus penguapan maks 80A Bekerja p jaminan 6 Pa - 4 Pa Menyedot debu t saya aku <5 Min( 2 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 2*10 -2 mbar Ruang s ize Φ 15 0* 12 0mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Penguapan t target s sumber Target Bahan: tali karbon / t sumber target: tali karbon Operasi m metode Manual Instruksi l Berat/ s ize 45 kg/ 39 panjang x 0mm 31 lebar 0mm x 2 Tinggi 90mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 2 000W Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan dukungan produk seumur hidup

Ilmu Material Vacuum Magnetron Ion Sputter Coater Coater

Ilmu Material Vacuum Magnetron Ion Sputter Coater Coater pengantar Ilmu Material Pelapis Ion Sputtering Magnetron (Model SD900M) ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Ini banyak digunakan untuk melapisi sampel SEM yang tidak konduktif atau peka panas dengan Au untuk pencitraan yang lebih baik. Ini juga sangat baik untuk perawatan permukaan dan menghindari kerusakan pada sampel substrat. Hasil Pelapisan Contoh Gambar dibawah SEM (dengan Model SD-900M) EPTFE (Extended Poly Tetra Fluoro Ethylene) Vakum rendah, dapat dicapai dengan cepat bila menggunakan pompa vakum yang tepat dalam waktu 5 menit. Ini menghasilkan lebih sedikit panas dan menghindari kerusakan plasma pada sampel substrat. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan. Pompa vakum disertakan. Pendingin adalah opsional. Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/dtk) Kekosongan l meniru 2 Pa Max sputtering saat ini 100mA Bekerja p jaminan 20Pa - 8 Pa Menyedot debu t saya aku <5 Min( 2 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 2*10 -2 mbar Ruang s ize Φ 15 0* 12 0mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Magnetron t target s sumber Target ukuran φ50*0.1mm(Au) / t sumber target: Au,Ag,Pt Operasi m metode Manual Instruksi l Berat/ s ize 45 kg/ 36 panjang x 0mm 30 lebar 0mm x 38 tinggi 0mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 15 00W Metode pendinginan Pendingin air (opsional) Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan dukungan produk seumur hidup

Magnetron Ion Thermal Evaporation Carbon Sputter Coater untuk Persiapan Sampel SEM

Magnetron Ion Thermal Evaporation Carbon Sputter Coater untuk Persiapan Sampel SEM pengantar Unit Pemercikan Ion Magnetron & Panas Karbon Penguapan Pelapis ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Model SD900C (Magnetron Ion Sputtering Unit) banyak digunakan untuk melapisi sampel SEM yang tidak konduktif atau peka panas dengan Au untuk pencitraan yang lebih baik. Ini juga sangat baik untuk perawatan permukaan dan menghindari kerusakan pada sampel substrat. Model SD900C (Thermal Evaporation Carbon Unit) pelapis karbon menerapkan film karbon konduktif tipis pada permukaan sampel. Menerapkan lapisan ini ke sampel non-konduktif adalah teknik persiapan yang efektif untuk mengurangi artefak elektron muatan untuk analisis dalam SEM. Tekanan kerja vakum dapat dicapai dengan cepat bila menggunakan pompa vakum yang tepat dalam waktu 5 menit. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan. Pompa vakum disertakan. Pendingin adalah opsional. (untuk Unit Pemercikan Ion Magnetron) Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/dtk) Kekosongan l meniru 2 Pa Max sputtering saat ini 100mA Penguapan maksimal saat ini 100A Bekerja p jaminan 20Pa - 8 Pa Menyedot debu ti aku <5 Min( 2 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 2*10 -2 mbar Gas c kontrol Gas f rendah c pengawas Ruang s ize Φ 15 0* 12 0mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Magnetron t target s sumber Ukuran target φ 50* 0,1 mm( SEBUAH kamu)/ t sumber target: Au,Ag,Pt Penguapan t target s sumber Bahan target: tali karbon / sumber target: tali karbon Operasi m metode Manual Instruksi l (2 unit) Berat/ s ize 55 kg/ 36 panjang x 0mm 30 lebar 0mm x 38 tinggi 0mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 20 00W Pendinginan m metode Udara c ooling (Penguapan)+pendinginan air (sputtering) Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan produk seumur hidup dukungan t

Mesin RF Plasma Magnetron Sputtering Coater 2 inci untuk Film Tipis Non-Konduktif

2 inci RF Plasma Magnetron Sputtering Coater untuk Film Tipis Non-Konduktif

Lab DC Magnetron Sputtering Coater Machine Dengan Target Lapisan Logam Mulia

Compact DC Magnetron Sputtering Coater Dengan Target Emas untuk Lapisan Logam Mulia

3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater Machine Heater (500C) Termasuk 3 Target

3 Pelapis Plasma Sputtering Sasaran Putar w. Substrat Heater (500C) Termasuk 3 Sasaran

Laboratorium besar Film otomatis Coater dengan Vacuum Chuck dan disesuaikan dokter Blade

besar Coater otomatis Film dengan Chuck vakum dan disesuaikan Doctor Blade TMAX-TM adalah CE bersertifikat besar otomatis Film Coater dengan vakum chuck dirancang untuk memproduksi film dengan ketebalan konsisten dengan menggunakan micrometer adjustable aplikator atau tetap ketebalan aplikator. Ini memiliki sistem mengemudi yang unik untuk menghasilkan lapisan halus pada semua jenis material. Chuck datar vakum dibangun untuk menahan substrat lembaran di tempat, yang terutama berguna ketika lapisan pada substrat tipis dan membuat seragam tape pengecoran. satu micrometer adjustable aplikator disediakan untuk digunakan segera. Mesin ini dapat digunakan untuk penelitian tentang pengecoran tape keramik dan Li-Ion baterai elektroda coating.

lab electrode coater dengan chuck vakum & pisau dokter 100-250mm

pelapis film otomatis dengan pengering, penyedot debu & amp; aplikator film yang dapat disesuaikan coater tape casting kompak Lebar 1.coater: 10-200mm 2. dengan pengering, pompa vakum 3. untuk peralatan lab

Lab 3 Kepala 1 Inci RF Plasma Magnetron Sputtering Coater Machine dengan DC Magnetron Sputtering

3 Kepala Compact 1 Inch RF Plasma Magnetron Sputtering Coater, dengan Opsi DC Magnetron Sputtering

5 Kepala Mesin RF Plasma Magnetron Sputtering Coater untuk Riset Film Tipis MGI

Disesuaikan 5 Kepala RF Plasma Magnetron Sputtering Coater untuk Riset Film Tipis MGI

Lab DC/RF Dual-Head Vacuum 2 Inch Magnetron Plasma Sputtering Coater Machine

DC/RF Dual-Head High Vacuum 2 Inch Magnetron Plasma Sputtering Coater

Continuous Roll To Roll Coating Machine untuk Pembuatan Elektroda Baterai Lithium dengan Oven Panjang Opsional

1.TMAX-JS kompak Hot Pers Silinder Bergulir dengan maks. suhu kerja 150 ° C , yang dirancang untuk menyiapkan elektroda baterai baik di dalam maupun di luar kotak sarung tangan. Moter DC torsi tinggi kompatibel dengan gas Ar. Ini berfungsi dengan baik dalam aplikasi seperti meningkatkan kerapatan bahan aktif elektroda dalam penelitian baterai Li-ion setelah pelapisan. Ini memiliki sepasang rol baja dengan kapasitas pemanasan 150 ° C maks. 2. TMAX-JS dilengkapi dengan motor DC 24V untuk pengoperasian yang aman di lingkungan gas Ar.