Pembersih Ozon Ultraviolet (UV) Desktop dengan Pemanas Substrat untuk Membersihkan Semua Jenis Substrat

Fitur

TMAX-PCE-22 adalah desktop Ultraviolet (UV) Pembersih ozon dengan pemanas substrat , yang digunakan untuk membersihkan semua jenis substrat untuk mencapai kualitas film tipis yang lebih baik dengan biaya rendah. Juga, ini adalah alat yang sangat baik untuk menghapus dan mengupas photoresist, meningkatkan keterbasahan permukaan, Membersihkan SEM & Sampel TEM, aktivasi polimer UV, perakitan, dll.

UV-Ozone Cleaner telah terbukti sangat efektif untuk pembersihan atom non-asam, kering, non-destruktif dan penghilangan kontaminan organik menggunakan sinar UV intens 185 nm dan 254 nm . Di bawah suhu udara dan ruangan, garis 185 menghasilkan Ozon dan garis 254 menggairahkan molekul organik di permukaan. Kombinasi ini mendorong penghancuran dan penipisan yang cepat dari kontaminan organik.

Spesifikasi

Daya Masukan	· AC 220V, 50/60 Hz, (110VAC tersedia berdasarkan permintaan) · Daya 350 W Maks.
Persyaratan Lingkungan	· Penggunaan Dalam Ruangan Saja; Penggunaan Ketinggian Hingga 5.500 Kaki; · Kisaran Suhu 41-104 Derajat Fahrenheit; · Kelembaban Relatif Maksimum 80%, Hingga 87 Derajat Fahrenheit Berkurang Secara Linear hingga 50% Kelembaban Relatif Pada 104 Derajat Fahrenheit; · Fluktuasi Catu Daya Utama Tidak Melebihi 10% Dari Tegangan Nominal; Tegangan Lebih Kategori II; · Tingkat Polusi 2; pengukuran tingkat ozon (ambien) pada <45 ppb.
Lampu UV	· Lampu merkuri gelombang ganda logam padat · Panjang Gelombang: 253.7nm dan 184.9nm · Masa pakai lampu UV: 5000 jam · Area sinar UV: 200 x 200 mm · Dapat membersihkan wafer kristal dengan diameter hingga ketebalan 12“ x 35 mm. · Lampu UV dikirimkan secara terpisah dengan mesin untuk menghindari potensi kerusakan transportasi.
Kamar & Tahap Sampel	· Kasing baja tahan karat · Laci geser untuk pemuatan sampel yang mudah · Area panggung sampel adalah 310 mm x 320 mm ( ~12"x12") · Maks. ketebalan sampel: 40 mm · Perangkat ventilasi ozon dibangun di dalam ruangan · Timer berkisar dari 0,01 detik hingga 99,9 jam.
Tahap Sampel yang Dapat Dipanaskan	· Tahap sampel dapat dipanaskan hingga 150ºC dengan pengontrol suhu presisi · Pengontrol suhu terdiri dari 20 segmen yang dapat diprogram dengan akurasi +/-2 C · Keseragaman suhu:<10C dalam area diameter 6 inci; <20C dalam diameter 12 inci · Laju pemanasan: maks 15C. · Jarak antara tahap sampel dan lampu dapat disesuaikan dari 20mm hingga 40mm.
Pelabuhan Ventilasi	· 3 in. port ventilasi diameter dibangun di bagian belakang mesin · Satu pipa fleksibel 10 kaki dan satu klem ventilasi disertakan untuk menghubungkan pembuangan pembersih ke sistem ventilasi lab.
Dimensi	· 510mm x 350mm x 400mm (P x T x T)
Berat bersih	· 62 pon
Berat Pengiriman & Ukuran	· 160 pon · 47" x 39" x 32"
Jaminan	Garansi terbatas 2 tahun dengan dukungan seumur hidup. Lampu UV yang rapuh tidak termasuk dalam garansi.
Aplikasi	· Membersihkan wafer silikon, wafer Gallium Arsenide, kuarsa dan kaca ITO · Bersihkan semua jenis substrat kristal oksida tunggal seperti safir, STO, dan LAO. · Membersihkan permukaan emas dan Pt · Permukaan pengoksidasi dari bahan logam ringan · Aktifkan Polimer dan Polimer Crosslink · UV Strip Photo Resist / Photoresist · Layar LED Lini Produksi UV Clean