desktop dip coater dengan kecepatan variabel (1-200 mm / mnt)

desktop dip coater dengan kecepatan variabel (1-200 mm / mnt)

vacuum chuck spin coater yang dapat diprogram (500-6000 rpm, 8 "wafer max) dengan penutup pemanas opsional

vacuum chuck spin coater yang dapat diprogram (500-6000 rpm, 8 "wafer max) dengan penutup pemanas opsional

compact spin coater (maks. 8000 rpm, maks. 4 "wafer) dengan 3 set vacuum chuck & aksesori lengkap

compact spin coater (maks. 8000 rpm, maks. 4 "wafer) dengan 3 set vacuum chuck & aksesoris lengkap

spin coater kecepatan tinggi yang dapat diprogram (10k rpm & 5 "maks) dengan vacuum chuck (penutup pemanas opsional)

spin coater kecepatan tinggi yang dapat diprogram (10k rpm & maks; 5 "maks) dengan chuck vakum (penutup pemanas opsional)

Mesin RF Plasma Magnetron Sputtering Coater 2 inci untuk Film Tipis Non-Konduktif

2 inci RF Plasma Magnetron Sputtering Coater untuk Film Tipis Non-Konduktif

Lab DC Magnetron Sputtering Coater Machine Dengan Target Lapisan Logam Mulia

Compact DC Magnetron Sputtering Coater Dengan Target Emas untuk Lapisan Logam Mulia

Mesin Lab DC Magnetron Sputtering Coater dengan Rotary Stage & Water Chiller

Pelapis Sputtering Magnetron DC Daya Tinggi dengan Panggung Putar & Pendingin Air

Lab DC Vacuum Ion Sputtering Coater Coater dengan Ukuran Chamber 150*120mm

Lab DC Vacuum Ion Sputtering Coater Coater dengan Ukuran Chamber 150*120mm pengantar Pelapis Ion Sputtering (Model SD900) ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Ini banyak digunakan untuk melapisi sampel SEM non-konduktif dengan Au untuk pencitraan yang lebih baik. Ini juga sangat baik untuk perawatan permukaan. Tekanan kerja vakum dapat dicapai dengan cepat dalam waktu 2 menit dengan menggunakan pompa vakum yang tepat. Ini menghasilkan lebih sedikit panas. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan. Pompa vakum disertakan. Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/dtk) Kekosongan l meniru 2 Pa Max sputtering saat ini 0-20mA Bekerja p jaminan 30 Pa - 7 Pa Menyedot debu ti aku <5 Min( 2 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 2*10 -2 mbar Gas c kontrol Gas f rendah c pengawas Ruang s ize Φ 15 0* 12 0mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Magnetron t target s sumber Ukuran target φ 50* 0,1 mm( SEBUAH kamu)/ t sumber target: Au,Ag,Pt Operasi m metode Manual Instruksi l Berat/ s ize 45 kg/ 36 panjang x 0mm 30 lebar 0mm x 38 tinggi 0mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 15 00W Pendinginan m metode Udara c ooling Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan dukungan produk seumur hidup t

Ilmu Material Vacuum Magnetron Ion Sputter Coater Coater

Ilmu Material Vacuum Magnetron Ion Sputter Coater Coater pengantar Ilmu Material Pelapis Ion Sputtering Magnetron (Model SD900M) ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Ini banyak digunakan untuk melapisi sampel SEM yang tidak konduktif atau peka panas dengan Au untuk pencitraan yang lebih baik. Ini juga sangat baik untuk perawatan permukaan dan menghindari kerusakan pada sampel substrat. Hasil Pelapisan Contoh Gambar dibawah SEM (dengan Model SD-900M) EPTFE (Extended Poly Tetra Fluoro Ethylene) Vakum rendah, dapat dicapai dengan cepat bila menggunakan pompa vakum yang tepat dalam waktu 5 menit. Ini menghasilkan lebih sedikit panas dan menghindari kerusakan plasma pada sampel substrat. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan. Pompa vakum disertakan. Pendingin adalah opsional. Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/dtk) Kekosongan l meniru 2 Pa Max sputtering saat ini 100mA Bekerja p jaminan 20Pa - 8 Pa Menyedot debu t saya aku <5 Min( 2 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 2*10 -2 mbar Ruang s ize Φ 15 0* 12 0mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Magnetron t target s sumber Target ukuran φ50*0.1mm(Au) / t sumber target: Au,Ag,Pt Operasi m metode Manual Instruksi l Berat/ s ize 45 kg/ 36 panjang x 0mm 30 lebar 0mm x 38 tinggi 0mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 15 00W Metode pendinginan Pendingin air (opsional) Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan dukungan produk seumur hidup

Magnetron Ion Thermal Evaporation Carbon Sputter Coater untuk Persiapan Sampel SEM

Magnetron Ion Thermal Evaporation Carbon Sputter Coater untuk Persiapan Sampel SEM pengantar Unit Pemercikan Ion Magnetron & Panas Karbon Penguapan Pelapis ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Model SD900C (Magnetron Ion Sputtering Unit) banyak digunakan untuk melapisi sampel SEM yang tidak konduktif atau peka panas dengan Au untuk pencitraan yang lebih baik. Ini juga sangat baik untuk perawatan permukaan dan menghindari kerusakan pada sampel substrat. Model SD900C (Thermal Evaporation Carbon Unit) pelapis karbon menerapkan film karbon konduktif tipis pada permukaan sampel. Menerapkan lapisan ini ke sampel non-konduktif adalah teknik persiapan yang efektif untuk mengurangi artefak elektron muatan untuk analisis dalam SEM. Tekanan kerja vakum dapat dicapai dengan cepat bila menggunakan pompa vakum yang tepat dalam waktu 5 menit. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan. Pompa vakum disertakan. Pendingin adalah opsional. (untuk Unit Pemercikan Ion Magnetron) Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/dtk) Kekosongan l meniru 2 Pa Max sputtering saat ini 100mA Penguapan maksimal saat ini 100A Bekerja p jaminan 20Pa - 8 Pa Menyedot debu ti aku <5 Min( 2 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 2*10 -2 mbar Gas c kontrol Gas f rendah c pengawas Ruang s ize Φ 15 0* 12 0mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Magnetron t target s sumber Ukuran target φ 50* 0,1 mm( SEBUAH kamu)/ t sumber target: Au,Ag,Pt Penguapan t target s sumber Bahan target: tali karbon / sumber target: tali karbon Operasi m metode Manual Instruksi l (2 unit) Berat/ s ize 55 kg/ 36 panjang x 0mm 30 lebar 0mm x 38 tinggi 0mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 20 00W Pendinginan m metode Udara c ooling (Penguapan)+pendinginan air (sputtering) Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan produk seumur hidup dukungan t

3 Rotary Target Plasma Sputtering Coater Machine Heater (500C) Termasuk 3 Target

3 Pelapis Plasma Sputtering Sasaran Putar w. Substrat Heater (500C) Termasuk 3 Sasaran

Vacuum Thermal Evaporating Carbon Coater Coater untuk Ilmu Material

Vacuum Thermal Evaporating Carbon Coater Coater untuk Ilmu Material pengantar Pelapis Karbon Penguapan Termal (Model SD800C) ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Pelapis karbon Model SD800C menerapkan film karbon konduktif tipis pada permukaan sampel. Menerapkan lapisan ini ke sampel non-konduktif adalah teknik persiapan yang efektif untuk mengurangi artefak elektron muatan untuk analisis dalam SEM. Tekanan kerja vakum dapat dicapai dengan cepat bila menggunakan pompa vakum yang tepat dalam waktu 5 menit. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan. Pompa vakum disertakan. Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h 2 . 6 L/dtk) Kekosongan l meniru 2 Pa Penguapan maksimal saat ini 100A Bekerja p jaminan 6Pa - 4 Pa Menyedot debu t aku < 5 Min( 2 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 2*10 -2 mbar Ruang s ize Φ 15 0* 12 0mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Penguapan t target s sumber Target bahan: tali karbon/target sumber: tali karbon Operasi m metode Manual Instruksi Berat/ s ize 45 kg/ 34 panjang x 0mm 39 lebar 0mm x 30 tinggi 0mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 2 000W Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan produk seumur hidup dukung

DC Vacuum Portable Auto Ion Sputtering Coater untuk Persiapan Sampel SEM Non-konduktif

DC Vacuum Portable Auto Ion Sputtering Coater untuk Persiapan Sampel SEM Non-konduktif pengantar Kompak Pelapis Ion Sputtering Otomatis (Model SD800) yang ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Ini banyak digunakan untuk melapisi sampel SEM non-konduktif dengan Au untuk pencitraan yang lebih baik. Ini juga sangat baik untuk perawatan permukaan. Tekanan vakum kerja dapat dicapai dengan cepat saat menggunakan pompa vakum yang tepat. Ini menghasilkan lebih sedikit panas. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan menggunakan Time Control. Pompa vakum disertakan. Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9 . 6 m³ /h ( 2 . 6 L/dtk) Menyedot debu t saya aku < 2 Min Ruang s ize Φ 115 * 1 00mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Magnetron t target s sumber Ukuran target φ 50* 0,1 mm( SEBUAH kamu)/ t sumber target: Au,Ag,Pt Operasi m metode Manual Instruksi l Berat/ s ize 4 0kg/ 307 mm panjang x 26 lebar 0mm x 26 tinggi 0mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 15 00W Pendinginan m metode Udara c ooling Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan produk seumur hidup dukung

Vacuum Pulsing Thermal Evaporating Sputtering Coater Coater dengan Pompa Vakum

Vacuum Pulsing Thermal Evaporating Sputtering Coater Coater dengan Pompa Vakum pengantar Otomatis Pelapis Karbon Evaporasi Termal Berdenyut (Model SD980) yang ideal dan dirancang untuk persiapan sampel lab SEM. Pelapis karbon Model SD980 adalah pelapis karbon otomatis penuh yang menerapkan film karbon konduktif tipis pada permukaan sampel. Menerapkan lapisan ini ke sampel non-konduktif adalah teknik persiapan yang efektif untuk mengurangi artefak elektron muatan untuk analisis dalam SEM. Mode berdenyut untuk melindungi sampel juga disertakan. Tekanan kerja vakum dapat dicapai dengan cepat bila menggunakan pompa vakum yang tepat. Ini ramah pengguna dan mudah dioperasikan dengan Mengontrol Daya Pemanasan Layar Sentuh (Arus) dan Waktu Berdenyut (Resep). Pompa vakum disertakan. Parameter Kekosongan p ump s et ( HAI saya diperlukan) r otari ay akuum p ump Putar p umping s pipis 50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/d)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/dtk) Kekosongan l meniru 2 Pa Arus penguapan maks 80A Bekerja p jaminan 6 Pa - 4 Pa Menyedot debu t saya aku <5 Min( 2 Pa) Kekosongan m easure Rentang pengukuran dari atmosfer ke 2*10 -2 mbar Ruang s ize Φ 15 0* 12 0mm (tinggi) kaca kuarsa tahan gores Penguapan t target s sumber Target Bahan: tali karbon / t sumber target: tali karbon Operasi m metode Manual Instruksi l Berat/ s ize 45 kg/ 39 panjang x 0mm 31 lebar 0mm x 2 Tinggi 90mm Kekuasaan s upply AC 110V 60Hz atau AC 220V 50Hz Kekuasaan c konsumsi < 2 000W Jaminan Garansi terbatas satu tahun dengan dukungan produk seumur hidup